華測儀器通過多年研究開發(fā)了一種可實現(xiàn)高的精度,高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置儀器——高真空退火爐。它能在高速加熱高速冷卻時,具有良好的溫度分布。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐,溫度斜率爐,階段加熱爐。可實現(xiàn)寬域均熱區(qū),高速加熱、高速冷卻,用石英管保護加熱式樣,無氣氛污染??稍诟哒婵眨叱黾兌葰怏w中加熱。還能節(jié)省時間并提高實驗速度;不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求;安裝簡單,有冷卻系,安全可靠;提高試驗人員的工作效率,。
設(shè)備優(yōu)勢:
高速加熱與冷卻方式
高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時爐體可配置水冷系統(tǒng),增設(shè)氣體冷卻裝置,可實現(xiàn)快速冷卻。
溫度高的精度控制
過紅外鍍金聚焦爐和溫度控制器的組合使用,可以精確控制樣品的溫度(遠比普通加溫方式)此外,冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高的精度。
不同環(huán)境下的加熱與冷卻
加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境、低溫(高純度惰性氣體靜態(tài)或流動),操作簡單,使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。
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